광학 장치를 작동시키는 방법, 및 광학 장치

• Main Authors: SCHMIDT STEFAN WOLFGANG, BECKER MORITZ
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 03.04.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

광학 장치(100A, 100B, 200)를 작동시키는 방법에서, 광학 장치는 구조적 요소(201)를 포함하고, 구조적 요소는 장치(100A, 100B, 200)의 잔류 가스 분위기(RGA)에 배치되고 잔류 가스 분위기(RGA)에 존재하는 플라즈마 성분(PK)에 의해 화학적 환원 프로세스 및/또는 에칭 프로세스를 받는 요소 재료로부터 적어도 부분적으로 형성되고, 아래의 단계가 수행된다: 잔류 가스 분위기(RGA)에서 억제 가스 성분(GK)에 의한 에칭 프로세스 및/또는 환원 프로세스의 억제를 위해 검출된 억제 범위(UM)에 따라 환원 프로세스를 적어도 부분적으로 억제하는 가스 성분(GK)을 공급하는 단계(S2); 및 잔류 가스 분위기(RGA)에 배치된 센서 유닛(208)의 도움으로 억제 범위(UM)를 검출하는 단계(S1)로서, 상기 센서 유닛은 센서 재료로 구성된 센서 재료 섹션(211)을 포함하고, 센서 재료 섹션(211)은 억제 가스 성분(GK)의 영향 하에서 측정 가능한 센서 섹션 특성을 갖는 것인 단계. A method for operating an optical apparatus (100A, 100B, 200), having a structural element (201) which is arranged in a residual gas atmosphere (RGA) of the apparatus and which is formed at least partly from an element material subjected to a chemical reduction process and/or an etching process with a plasma component (PK) present in the residual gas atmosphere includes: feeding (S2) a gas component (GK) that at least partly suppresses the reduction process depending on a detected suppression extent (UM) for a suppression of the etching process and/or reduction process by the suppressing gas component in the residual gas atmosphere; and detecting (S1) the suppression extent with a sensor unit (208) arranged in the residual gas atmosphere. The sensor unit includes a sensor material section (211) composed of a sensor material and exhibiting a sensor section property that is measurable under the influence of the suppressing gas component.