폴리(P-히드록시스티렌) 에폭시 수지, 그 합성 및 사용

• Main Authors: ZOU YINGQUAN, WANG ZHENG, GUO YEJIA, PANG YULIAN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 03.04.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

본 발명은 하기 화학식 (I)의 중합체에 관한 것으로, 여기서 R-R, R-R, R-R, R-R, n, n, n및 n가 본 명세서에서 정의된 바와 같다. 포토레지스트 용 필름-형성 수지로서 사용되는 경우, 상기 중합체는 우수한 자외선 투과율, 후막을 형성하기 위한 높은 점도, 빠른 감광속도 및 고해상도 등과 같은 이점을 갖는다. 본 발명은 또한 화학식 (I)의 중합체의 제조 방법, 포토레지스트에서의 필름-형성 수지로서 화학식 (I)의 중합체의 용도 및 필름-형성 수지로서 화학식 (I)의 중합체를 포함하는 포토레지스트에 관한 것이다. The present invention relates to a polymer of formula (I), wherein Ra-Rd, Ra0-Rd0, Ra1-Rd1, Ra2-Rd2, n, n0, n1and n2are as defined in the specification. When used as a film-forming resin for a photoresist, the polymer has such advantages as good ultraviolet light transmittance, high viscosity to form a thick film, fast photospeed, and high resolution. The present invention further relates to a process for the preparation of a polymer of formula (I), a use of a polymer of formula (I) as a film-forming resin in a photoresist, and a photoresist comprising a polymer of formula (I) as a film-forming resin.