결함 최적화를 위한 레티클 배치의 제어

• Main Authors: RIZO DIAGO PEDRO JULIAN, BENDIKSEN AAGE, JUDGE ANDREW
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 11.03.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

패터닝 디바이스를 복수 개의 버얼을 가지는 지지 구조체에 커플링하도록 설계되는 시스템은 카메라 모듈, 액츄에이터, 및 제어기를 포함한다. 카메라 모듈은 패터닝 디바이스의 후면의 이미지 데이터를 캡쳐하도록 설계된다. 액츄에이터는 복수 개의 버얼 중 적어도 하나의 버얼에 커플링되고, 적어도 하나의 버얼을 이동시키도록 설계된다. 제어기는 카메라 모듈로부터 캡쳐된 이미지 데이터를 수신하고, 이미지 데이터로부터 패터닝 디바이스의 후면 상의 오염의 하나 이상의 위치를 결정하도록 설계된다. 또한, 제어기는, 오염의 결정된 위치에 기반하여, 액츄에이터가 상기 복수 개의 버얼 중 적어도 하나의 버얼을 패터닝 디바이스의 후면 상의 오염의 하나 이상의 위치로부터 멀어지게 이동시키도록 제어하게끔 설계된다. A system designed to couple a patterning device to a support structure having a plurality of burls includes a camera module, an actuator, and a controller. The camera module is designed to capture image data of a backside of the patterning device. The actuator is coupled to at least one burl of the plurality of burls and is designed to move the at least one burl. The controller is designed to receive the image data captured from the camera module and determine one or more locations of contamination on the backside of the patterning device from the image data. The controller is also designed to control the actuator to move the at least one burl of the plurality of burls away from the one or more locations of contamination on the backside of the patterning device, based on the determined locations of contamination.