기판을 이송하기 위한 장치, 그러한 장치의 기판 캐리어에 적합화된 수용 플레이트를 갖는 처리 장치, 기판을 이송하기 위한 그러한 장치를 사용하여 기판을 프로세싱하는 방법, 및 처리 시스템

• Main Authors: ANSORGE ERIK, RASCHKE SEBASTIAN, KEHR MIRKO, SCHLEMM HERMANN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.02.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명은 처리 장치 내로 또는 밖으로 기판을 이송하기 위한 장치, 처리 장치, 기판을 프로세싱하는 방법, 및 기판을 이송하기 위한 그러한 장치를 이동시키기 위한 이동 배열체를 갖는 처리 시스템에 관한 것이다. 이러한 경우에, 기판을 이송하기 위한 장치는 수평으로 연장되는 유지 영역 및 하나 또는 복수의 그리핑 아암들을 포함하는 기판 캐리어를 갖는다. 유지 영역은 기판과 대면하는 제1 표면 상에서 평평하고 균일하며, 상기 유지 영역의 형상은 기판의 형상에 실질적으로 대응하고, 상기 유지 영역의 면적 크기는 기판의 면적 크기와 실질적으로 동일하고, 기판은 그 후면이 그 중량에 의해서만 유지 영역 상에 유지된다. 처리 장치는 처리 동안에 기판이 유지되는 수용 플레이트를 가지며, 수용 플레이트는 제1 표면에서, 기판의 처리 동안에 그러한 기판 캐리어를 수용하기에 적합한 오목부를 갖는다. The invention relates to an apparatus for transporting a substrate into or out of a treatment apparatus, to a treatment apparatus, to a method of processing a substrate and to a treatment system having a movement arrangement for moving such an apparatus for transporting a substrate. In this case, the apparatus for transporting a substrate has a substrate carrier that includes a horizontally extending holding area and one or a plurality of gripping arms. The holding area is even and uniform on a first surface facing the substrate, the shape of said holding area substantially corresponding to the shape of the substrate and the area size of said holding area being substantially the same as the area size of the substrate, the substrate being held with its rear side on the holding area merely by its weight. The treatment apparatus has a receiving plate on which the substrate is held during the treatment, the receiving plate having a recess that is suitable for receiving such a substrate carrier during the treatment of the substrate in a first surface.