Substrate processing apparatus

• Main Authors: SON BAEG MO, KAM BYUNG MIN, JANG WOOK SANG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 19.02.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more specifically, relates to a substrate processing apparatus which can block exposure to external air. According to the present invention, the substrate processing apparatus comprises: a housing (100) in which at least two independent internal spaces are formed, including a process chamber (10), which forms a sealed processing space, and performs the processing of substrates, and a process chamber installation space (S1) in which the process chamber (10) is installed; and an exhaust unit (200) placed in the housing (100) linked to an exhaust pump such that hazardous gas is discharged through the exhaust pump placed outside the housing (100). The housing (100) includes: one or more exhaust frames (130) in which an exhaust flow path is formed to deliver the hazardous gas from the internal spaces to the side of the exhaust unit (200) to discharge the hazardous gas inside the independent internal spaces through the exhaust unit (200); and a plurality of plates (120) engaged with the frames (110) such that the plurality of internal spaces are formed to be blocked from the outside. 본 발명은, 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 외기노출이 차단되는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은, 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 공정챔버(10)와; 상기 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)을 포함하여 적어도 2개 이상의 복수의 독립된 내부공간들을 형성하는 하우징(100)과; 상기 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 상기 유해가스가 배기되도록, 상기 하우징(100)에 상기 배기펌프와 연통되어 구비되는 배기부(200)를 포함하며, 상기 하우징(100)은, 독립된 상기 내부공간들 내 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 상기 내부공간들로부터 상기 배기부(200) 측으로 상기 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과; 외부와 차단되는 복수의 상기 내부공간들이 형성되도록, 상기 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함하는 기판처리장치를 개시한다.