마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 방법 및 투영 노광 장치

• Main Author: WOLF ALEXANDER
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.02.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

투영 노광 장치의 동작 제어 시스템의 제어하에 마스크 패턴의 적어도 하나의 이미지로 감방사선 기판을 노광하기 위한 투영 노광 방법에서, 조명 영역에 놓인 패턴의 일부는 투영 렌즈의 도움으로 기판상의 이미지 필드를 포함하고, 이미지 필드에서 이미지 생성에 기여하는 투영 방사선의 모든 광선은 투영 빔 경로를 형성한다. 투영 방사선의 파면은 투영 빔 경로에 배열된 조작기 표면을 갖는 조작기 및 조작기 표면의 광학 효과를 가역적으로 변화시키기 위한 조작 장치에 의해 영향을 받는다. 작동 장치의 조작 된 값 변화는 목표 기능을 최적화하는 보정 알고리즘을 갖는 제어 프로그램에 기초하여 작동 제어 시스템에 의해 결정된다. 적어도 하나의 조작기의 목표 함수는 조작기에서 규정된 조작된 값 변화와 이에 의해 이미지 필드에서의 투영 방사선의 텔레센트리시티에 대해 달성될 수 있는 효과 사이의 관계를 기술하는 텔레센트리시티 감도를 포함한다. A projection exposure method and apparatus are disclosed for exposing a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask under the control of an operating control system of a projection exposure apparatus, part of the pattern lying in an illumination region is imaged onto the image field on the substrate with the aid of a projection lens, wherein all rays of the projection radiation contributing to the image generation in the image field form a projection beam path.