밸브를 가진 장치 및 작동 방법

• Main Author: PUDAS MARKO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.01.2020
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

장치는, 프로세싱될 기판(600)을 수용하는 반응 챔버(530,1430); 및, 반응 챔버(530,1430)에 유체 연결된 펄스 밸브(pulsing valve, 100, 300, 900, 900', 900", 900*)를 포함한다. 펄스 밸브는, 반응 화학 물질을 수용하는 반응 화학 물질 유입부(101, 901, 901', 901"); 반응 챔버(530,1430)에 대한 펄스 밸브의 제공된 유체 연결을 중재하는 반응 챔버 유출부(104,904,904"); 펄스 밸브에 있는 반응 화학 물질 유입부(101, 901, 901', 901")로부터 반응 챔버 유출부(104, 904, 904")로의 유체 유동을 제어하는 폐쇄부(111, 191, 991); 및, 전체 기판 프로세싱 사이클 또는 시퀀스 동안 추가적인 유동 채널을 통하여 폐쇄부(111,191)를 연속적으로 퍼지시키는 추가적인 유동 채널 유입부 또는 유출부(103, 303, 903, 903', 903");를 포함한다. An apparatus, a method and a valve with a reactive chemical inlet, a reaction chamber outlet, and a closure having an open and closed configuration to open and close, respectively, a route from the reactive chemical inlet to the reaction chamber outlet, the valve further including an additional cleaning chemical inlet at a downstream side of the closure to purge the closure.