METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PATTERN ON IMPRINT MATERIAL

• Main Authors: SATO HIROSHI, MOROHOSHI HIROSHI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.01.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a method for forming a pattern of an imprinting material on a shot area of a substrate using a mold, which comprises the steps of: determining a plurality of marks for alignment of the shot area and the mold; performing measurement for the alignment using the plurality of marks determined in the determining step; setting the origin position of a coordinate system for acquiring the alignment error between the shot area and the mold based on the alignment of the plurality of marks determined in the determining step; and acquiring the alignment error based on a measurement result in the measurement step and the origin position determined in the setting step. 몰드를 사용하여 기판의 샷 영역 상에 임프린트재의 패턴을 형성하는 방법은 샷 영역 및 몰드의 정렬을 위한 복수의 마크를 결정하는 단계; 결정 단계에서 결정된 복수의 마크를 사용하여 정렬을 위한 계측을 행하는 단계, 결정 단계에서 결정된 복수의 마크의 배치에 기초하여 샷 영역과 몰드 사이의 정렬 오차의 취득을 위한 좌표계의 원점 위치를 설정하는 단계, 및 계측에서의 계측 결과 및 설정 단계에서 결정된 원점 위치에 기초하여 정렬 오차를 취득하는 단계를 포함한다.