플라즈마 반응기의 전극들에의 전력 인가

• Main Authors: GUO YUE, CARDUCCI JAMES D, RAMASWAMY KARTIK, RICE MICHAEL R, COLLINS KENNETH S, RAUF SHAHID, BERA KALLOL
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 04.12.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

플라즈마 반응기는, 플라즈마 챔버를 제공하는 내부 공간을 갖는 챔버 몸체, 처리 가스를 플라즈마 챔버에 전달하기 위한 가스 분배기, 챔버를 배기하기 위해 플라즈마 챔버에 결합된 펌프, 작업물을 유지하기 위한 작업물 지지부, 및 플라즈마 챔버의 천장과 작업물 지지부 사이에 플라즈마 챔버를 통해 측방향으로 연장되는 복수의 필라멘트들을 포함하는 챔버내 전극 조립체를 포함한다. 각각의 필라멘트는 원통형 절연 쉘에 의해 둘러싸인 전도체를 포함한다. 복수의 필라멘트들은 제1 다수의 필라멘트들 및 제1 다수의 필라멘트들과 교번하는 패턴으로 배열된 제2 다수의 필라멘트들을 포함한다. RF 전원은 제1 RF 입력 신호를 제1 다수의 필라멘트들에 인가하도록 구성된다. A plasma reactor includes a chamber body having an interior space that provides a plasma chamber, a gas distributor to deliver a processing gas to the plasma chamber, a pump coupled to the plasma chamber to evacuate the chamber, a workpiece support to hold a workpiece, and an intra-chamber electrode assembly that includes a plurality of filaments extending laterally through the plasma chamber between a ceiling of the plasma chamber and the workpiece support. Each filament including a conductor surrounded by a cylindrical insulating shell. The plurality of filaments includes a first multiplicity of filaments and a second multiplicity of filaments arranged in an alternating pattern with the first multiplicity of filaments. An RF power source is configured to apply a first RF input signal to the first multiplicity of filaments.