HOLDING DEVICE FOR RECEIVING A PLURALITY OF SUBSTRATES FOR THE TREATMENT OF THE LATTER TREATMENT SYSTEM AND TREATMENT METHOD

• Main Authors: LIEPACK HARALD, RACK ANDREAS, MERZ THOMAS, WISSEL SEBASTIAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 19.11.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a holding device (1) for accommodating a plurality of substrates (61) to be treated by a treatment system provided for a plurality of substrates (61). The present invention also relates to a treatment system and a treatment method using embodiments of the following holding device. The holding device (1) includes a flange (10) and at least one segment (20) arranged on the flange (10). The flange (10) has connection surfaces to arrange the segment (20) on the flange (10). The segment (20) has a segment support structure (30) and at least one carrier (40) to accommodate a plurality of substrates (61). The carrier (40) is assembled on the segment support structure (30). 본 발명은, 처리될 복수 개의 기판들(61)을 위해 제공된 처리 시스템에서 처리될 복수 개의 기판들(61)을 수용하기 위한 유지 장치(1)에 관한 것이다. 본 발명은, 마찬가지로, 후술하는 유지 장치의 실시예를 사용하는 이러한 처리 시스템뿐만 아니라 처리 방법에 관한 것이다. 유지 장치(1)는 플랜지(10) 및 플랜지(10) 상에 배치되는 적어도 하나의 세그먼트(20)를 포함한다. 플랜지(10)는 플랜지(10) 상에 세그먼트(20)를 배치하기 위한 연결면들을 가지며, 세그먼트(20)는 세그먼트 지지 구조체(30)뿐만 아니라 하나 또는 복수 개의 기판들(61)을 수용하기 위한 적어도 하나의 캐리어(40)를 가지며, 상기 캐리어(40)는 세그먼트 지지 구조체(30) 상에 조립된다.