포토리소그래피 마스크의 결함을 처리하기 위한 복구 형상을 확인하기 위한 방법 및 장치

• Main Authors: WAIBLINGER MARKUS, OSTER JENS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 22.10.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 포토리소그래피 마스크(100)의 적어도 하나의 결함(140)을 처리하기 위한 복구 형상(195)을 확인하는 방법으로서, 상기 방법은 아래의 단계들: (a) 적어도 하나의 결함(140)의 상기 복구 형상(195)에 대한 적어도 하나의 보정값(185)을 결정하는 단계 - 상기 보정값(185)은 상기 포토리소그래피 마스크(100)의 적어도 하나의 패턴 요소(130)의 위치(175)를 고려하며, 상기 적어도 하나의 패턴 요소는 상기 적어도 하나의 결함(140)과 접촉하지 않음 - ; 및 (b) 적어도 하나의 보정값(185)을 적용함으로써 복구 형상(195)을 보정하는 단계를 포함한다. The present invention relates to a method for ascertaining a repair shape for processing at least one defect of a photolithographic mask including the following steps: (a) determining at least one correction value for the repair shape of the at least one defect, wherein the correction value takes account of a position of at least one pattern element of the photolithographic mask, said at least one pattern element not contacting the at least one defect; and (b) correcting the repair shape by applying the at least one correction value.