레티클 클램핑 디바이스

• Main Authors: NAYFEH SAMIR A, EVANS BRANDON ADAM, ZORDAN ENRICO, BAHETI ANKUR RAMESH, BURBANK DANIEL NATHAN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.10.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

X 및 Y 방향으로의 이동 및 히스테리시스에 대한 최소한의 영향을 갖고 높은 가속 및 감속 하에서 기능할 수 있는 패터닝 디바이스를 위한 Z 방향으로의 지지 시스템을 제공하는 시스템 및 방법이 개시된다. 레티클 클램핑 시스템은 지지 디바이스와 유지 디바이스를 포함하고 있다. 유지 디바이스는 레티클을 지지 디바이스에 해제 가능하게 연결하도록 구성되어 있다. 유지 디바이스는 복수의 버얼을 포함하고 있다. 레티클 클램핑 시스템은 지지 디바이스에 연결된 금속 지지 시스템을 더 포함하고 있다. 금속 지지 시스템은 진공 채널에서 유지 디바이스까지 진공 경로를 제공한다. Systems and methods are disclosed that provide a support system in the Z direction for patterning devices that can function under high acceleration and deceleration with minimal effect on travel and hysteresis in the X and Y directions. A reticle clamping system includes a support device and a holding device. The holding device is configured to releasably couple a reticle to the support device. The holding device includes a plurality of burls. The reticle clamping system further includes a metallic support system coupled to the support device. The metallic support system provides a vacuum path from a vacuum channel to the holding device.