기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

• Main Author: NAKAI HITOSHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 28.08.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

기판 처리 장치는, 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과, 상기 기판을 처리하기 위한 처리액을 토출하기 위한 처리액 노즐과, 상기 처리액 노즐에 처리액을 공급하는 공급 배관과, 상기 공급 배관에 개재되어, 당해 공급 배관을 개폐하는 공급 밸브와, 상기 처리액 노즐로부터 토출된 처리액이며, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되지 않는 처리액이 흐르는 유통 배관과, 상기 공급 밸브로부터의 처리액의 누출을 검출하기 위한 누액 검출 유닛이며, 상기 유통 배관에 개재되어 당해 유통 배관을 개폐하는 유통 밸브와, 상기 유통 배관 중 상기 유통 밸브보다 상류측의 상류측 영역에 모이는 처리액, 또는 상기 상류측 영역으로부터 분기하여, 상기 처리액을 모아 두는 것이 가능한 분기 영역에 모이는 처리액을 검출하기 위한 검출기를 갖고, 상기 공급 밸브 및 상기 유통 밸브의 닫힘 상태에 있어서 상기 상류측 영역 또는 상기 분기 영역에 모이는 처리액에 의거하여 상기 공급 밸브로부터의 누액을 검출하는 누액 검출 유닛을 포함한다. A substrate processing device includes: a substrate holding unit for holding a substrate; a process liquid nozzle for discharging a process liquid for processing the substrate; a supply pipe for supplying the process liquid to the process liquid nozzle; a supply valve set between the supply pipes and opening and closing the supply pipe; a circulation pipe through which a process liquid flows thathas been discharged from the process liquid nozzle and is not supplied to the substrate held by the substrate holding unit; and a leakage detection unit used for detecting the leakage of the process liquid from the supply valve, having a circulation valve set between the circulation pipes and opening and closing the circulation pipe and a detector for detecting the process liquid accumulated in anupstream side region of the circulation pipe on the upstream side with respect to the circulation valve or the process liquid accumulated in a branch region branched from the upstream side region andcapable of accumulating the process liquid, and detecting the liquid leaked from the supply valve on the basis of the process liquid accumulated in the upstream side region or the branch region whilethe supply valve and the circulation valve are closed.