계측 센서, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
위치 센서와 같은 계측 센서 시스템이 개시된다. 시스템은, 기판 상의 계측 마크로부터 회절되고 산란된 방사선을 집광하도록 구성되는 광학 집광 시스템 - 상기 집광된 방사선은 적어도 하나의 파라미터-감응 신호 및 파라미터-감응성이 아닌 노이즈 신호를 포함하는 것임 -, 상기 집광된 방사선을 처리하도록 동작가능한 처리 시스템, 및 모듈 하우징을 포함한다. 노이즈 신호로부터 분리된 적어도 하나의 파라미터-감응 신호를 상기 처리 시스템으로부터 상기 하우징 외부의 검출 시스템에 유도하기 위하여 광학 가이드가 제공된다. 검출기는 분리된 적어도...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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13.08.2019
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Summary: | 위치 센서와 같은 계측 센서 시스템이 개시된다. 시스템은, 기판 상의 계측 마크로부터 회절되고 산란된 방사선을 집광하도록 구성되는 광학 집광 시스템 - 상기 집광된 방사선은 적어도 하나의 파라미터-감응 신호 및 파라미터-감응성이 아닌 노이즈 신호를 포함하는 것임 -, 상기 집광된 방사선을 처리하도록 동작가능한 처리 시스템, 및 모듈 하우징을 포함한다. 노이즈 신호로부터 분리된 적어도 하나의 파라미터-감응 신호를 상기 처리 시스템으로부터 상기 하우징 외부의 검출 시스템에 유도하기 위하여 광학 가이드가 제공된다. 검출기는 분리된 적어도 하나의 파라미터-감응 신호를 검출한다. 차광부는 0차 방사선을 차단하고 및/또는 축소시키기 위한 것이고, 광학 시스템은 광학 가이드와 검출기 사이에 제공될 수 있다.
Disclosed is a metrology sensor system, such as a position sensor. The system comprises an optical collection system configured to collect diffracted or scattered radiation from a metrology mark on a substrate, said collected radiation comprising at least one parameter-sensitive signal and noise signal which is not parameter-sensitive, a processing system operable to process the collected radiation; and a module housing. An optical guide is provided for guiding the at least one parameter-sensitive signal, separated from the noise signal, from the processing system to a detection system outside of the housing. A detector detects the separated at least one parameter-sensitive signal. An obscuration for blocking zeroth order radiation and/or a demagnifying optical system may be provided between the optical guide and the detector. |
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Bibliography: | Application Number: KR20197020707 |