EXTRUSION CONTROL BY CAPILLARY FORCE REDUCTION

• Main Authors: FLETCHER EDWARD BRIAN, ESTRADA TERESA PEREZ, TAVAKKOLI KERMANI GHARIEHALI AMIR
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.08.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to an imprinting templates for imprinting a pattern on moldable material on a substrate, an imprinting system and an imprinting method. The template comprises an edge region surrounding a pattern region. The overall height represents an absolute value of the distance between a top surface and a bottom surface of the pattern region. An edge region extends to an edge of mesa of a template, wherein a portion of the edge region may be at least overall height below the top surface of the pattern region. An area of the portion of the edge region may be large enough to prevent extrusion of at least the moldable material between the template and the substrate beyond the edge of the mesa. 기판 상의 성형가능 재료에 패턴을 임프린트하기 위한 임프린팅 템플릿, 임프린팅 시스템 및 임프린팅 방법. 템플릿은 패턴 영역을 둘러싸는 에지 영역을 포함한다. 전체 높이가 패턴 영역의 상부 표면과 저부 표면 사이의 거리의 절대값을 나타낸다. 에지 영역은 템플릿의 메사의 에지까지 연장된다. 에지 영역의 일부가 패턴 영역의 상부 표면 아래의 적어도 전체 높이일 수 있다. 에지 영역의 일부의 면적은 적어도 템플릿과 기판 사이에 있는 성형가능 재료가 메사의 에지를 넘어 압출되어 나오는 것을 방지할만큼 충분히 클 수 있다.