마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치, 마스크 교환 챔버, 및 진공 시스템

• Main Authors: SALUGU SRINIVAS, SAUER ANDREAS, GOVINDASAMY SATHIYAMURTHI, KLEIN WOLFGANG, ZANG SEBASTIAN GUNTHER
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.07.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법이 설명된다. 일 실시예에 따르면, 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20) 상에 마스크 디바이스(10)를 로딩하는 단계(X1); 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계(X2) - 제2 상태는 비-수평 상태임 -; 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(X3); 및 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(X4)를 포함한다. 추가로, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치(100)뿐만 아니라 그러한 장치를 포함하는 진공 시스템이 설명된다. Method of handling a mask device are described. According to m embodiment, the method includes: Loading the mask device on a holding arrangement for holding the mask device; moving the holding arrangement from a first state into a second state, the second slate being a non-horizontal state; aligning the holding- arrangement with a mask carrier; and transferring the mask device from the holding arrangement to the mask earner. Further, an apparatus for exchanging a mask device from a mask carrier as well as a vacuum system including such an apparatus are described.