SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM

• Main Authors: TANIGUCHI YUKI, NONAKA JUN, FUKUDA YOSHITERU, IKEDA YOSHINORI, MARUYAMA HIROTAKA
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 24.07.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention detects a liquid residue of a back surface of a substrate after dry-processing. According to one embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus comprises a maintaining unit, a nozzle, a detecting unit, and a control unit. The maintaining unit maintains and rotates the substrate. The nozzle discharges processing liquid toward the back surface of the substrate. The detecting unit measures temperature of an object in a target area. The control unit controls the maintaining unit, performs dry-processing dusting the processing liquid from the substrate to dry the substrate by rotating the substrate, and then determines the presence or absence of the liquid residue of the processing liquid in the back surface of the substrate based on a result detected by the detecting unit. 본 발명은 건조 처리 후의 기판 이면의 액잔류을 검출하는 것을 과제로 한다. 실시형태에 관한 기판 처리 장치는, 유지부와, 노즐과, 검지부와, 제어부를 구비한다. 유지부는 기판을 유지하여 회전시킨다. 노즐은 기판의 이면을 향해 처리액을 토출한다. 검지부는 대상 영역 내의 물체의 온도를 측정한다. 제어부는, 유지부를 제어하여, 기판을 회전시킴으로써 기판으로부터 처리액을 털어내어 기판을 건조시키는 건조 처리를 행한 후, 검지부에 의한 검지 결과에 기초하여, 기판의 이면에서의 처리액의 액잔류의 유무를 판정한다.