지방산 처리를 위한 산 조성물
본 발명은 하기를 포함하는 조성물에 관한 것이다: 화학식 R-SOH (식 중, R 은 적어도 하나의 할로겐 원자로 임의 치환될 수 있는 1 내지 4 개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형 포화 탄화수소 사슬임) 의 알칸설폰산 적어도 하나, 적어도 하나의 아릴 설폰산, 및, 임의로, 적어도 하나의 용매 (이들의 비율은 명세서에 정의된 바와 같음). 본 발명은 또한 지방산 에스테르화 방법에서의 조성물의 용도에 관한 것이다. The invention also relates to the use of composition in a fatty a...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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18.07.2019
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Summary: | 본 발명은 하기를 포함하는 조성물에 관한 것이다: 화학식 R-SOH (식 중, R 은 적어도 하나의 할로겐 원자로 임의 치환될 수 있는 1 내지 4 개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형 포화 탄화수소 사슬임) 의 알칸설폰산 적어도 하나, 적어도 하나의 아릴 설폰산, 및, 임의로, 적어도 하나의 용매 (이들의 비율은 명세서에 정의된 바와 같음). 본 발명은 또한 지방산 에스테르화 방법에서의 조성물의 용도에 관한 것이다.
The invention also relates to the use of composition in a fatty acid esterification method. |
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Bibliography: | Application Number: KR20197017954 |