THIN FILM DEPOSITION APPARATUS ENABLE TO ROTATE SUBSTRATE

• Main Authors: SHIN SEUNG HUN, JUNG BYUNG HO, JEONG JU HO, JEONG JONG YEUL, SHIM JANG WOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.07.2019
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

According to the present invention, provided is a thin film deposition apparatus including: a chamber having an internal space into which reaction gas flows; a heating module providing thermal energy into the internal space; a support module placed in the internal space, and supporting a substrate reacting to the reaction gas in a high-temperature atmosphere with the thermal energy; and a vibrating module including a rotating unit rotating the support module to enable the substrate to be rotated with respect to the flow of the reaction gas, and penetrating the chamber. The heating module includes a substrate area possessed by the substrate and is formed to apply a thermal influence on a heating area which is larger than the substrate area. 본 발명은, 반응 가스가 유입되는 내부 공간을 구비하는 챔버; 상기 내부 공간에 열 에너지를 제공하는 가열 모듈; 상기 내부 공간에 배치되고, 상기 열 에너지에 의한 고온 분위기에서 상기 반응 가스와 반응하는 기판을 지지하는 지지 모듈; 및 상기 반응 가스의 유동에 대해 상기 기판이 회전하도록 상기 지지 모듈을 회전 구동하는 회동 유닛을 구비하고, 상기 챔버를 관통하여 설치되는, 요동 모듈을 포함하고, 상기 가열 모듈은, 상기 기판이 차지하는 기판 영역을 포함하며 상기 기판 영역보다 넓은 가열 영역에 대한 열적 영향을 가하도록 구성되는, 박막 증착 장비를 제공한다.