형성 본체 치수 변동 보상 방법 및 장치

• Main Authors: BORATAV OLUS NAILI, YU JAE HYUN, PENG GAOZHU, DELIA ROBERT, KOCATULUM BULENT, NISHIMOTO MICHAEL YOSHIYA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 03.07.2019
• Subjects: CHEMISTRY; GLASS; MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL

유리 형성 장치가 형성 본체를 포함할 수 있고, 형성 본체는, 상단 패널 및 측면 패널들의 쌍을 갖는 외장 내에 배치된다. 형성 본체는 유입구 단부, 및 유입구 단부로부터 경사져 연장되는 이격된 둑의 쌍에 의해서 형성되는 홈통을 포함한다. 상단 패널은 이격된 둑의 쌍의 상단 표면 위에 배치되고, 그러한 표면에 실질적으로 평행하게 연장되고, 그러한 표면을 가로지른다. 장치는 또한 외장의 상단 패널 및 둑 위에 배치되고 그에 실질적으로 평행하게 연장되며 가로지르는 지지 판을 포함할 수 있다. 균일한 크기의 열적 요소의 어레이가 지지 판으로부터 매달리고 형성 본체의 홈통 위에 배치된다. 열적 요소의 어레이는, 형성 본체의 길이를 따라서 외장의 상단 패널로부터 동일 거리에 배치되는 하단 부분들을 가질 수 있다. A glass forming apparatus may include a forming body positioned within an enclosure having a top panel and a pair of side panels. The forming body includes an inlet end and a trough defined by a pair of spaced apart weirs extending with an incline from the inlet end. The top panel is positioned above and extends substantially parallel to and across top surfaces of the pair of spaced apart weirs. The apparatus may also include a support plate positioned above and extending substantially parallel to and across the top panel of the enclosure and the weirs. An array of thermal elements of uniform size are suspended from the support plate and positioned above the trough of the forming body. The array of thermal elements may have bottom portions that are positioned equidistant from the top panel of the enclosure along the length of the forming body.