시클로메탈화 이리듐 착체의 제조 방법, 및 유기 이리듐 재료를 포함하는 시클로메탈화 이리듐 착체의 전구체

• Main Authors: KOBAYASHI RUMI, TANIUCHI JUNICHI, KONNO HIDEO, MASAHIRO YASUSHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.07.2019
• Subjects: ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM; CHEMISTRY; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY

본 발명은, 유기 이리듐 재료를 포함하는 시클로메탈화 이리듐 착체의 원료와, 이리듐-탄소 결합 그리고 이리듐-질소 결합을 형성할 수 있는 방향족 복소환 2좌 배위자를 반응시켜, 시클로메탈화 이리듐 착체를 제조하는 방법에 있어서, 상기 원료로서 하기 일반식 (1)로 표시되는 유기 이리듐 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 시클로메탈화 이리듐 착체의 제조 방법이다. 본 발명에 따르면, 할로겐 가교 이리듐 다이머를 부생하지 않고, 시클로메탈화 이리듐 착체를 고수율로 제조할 수 있다. The present invention relates to a process for producing a cyclometallated iridium complex by reacting an organoiridium-material starting material of the cyclometallated iridium complex with an aromatic heterocyclic bidentate capable of forming an iridium-carbon bond and an iridium-nitrogen bond, characterized by using an organoiridium material represented by general formula (1) as the starting material. According to the present invention, it is possible to produce a cyclometallated iridium complex in high yield without generating, as a by-product, any halogen-bridged iridium dimer.