오브젝트 조명 및 이미징을 위한 디바이스, 시스템 및 방법

조명 시스템은 이미징 타겟이 상부에 배치되도록 구성된 표면, 광원, 빔 스플리터 및 적어도 제 1 미러를 포함한다.  빔 스플리터는 광원으로부터의 광 빔을 분리하도록 구성되며, 제 1 미러는 제 1 빔을 빔 스플리터로부터 이미징 타겟을 갖는 표면 상으로 반사시키도록 구성된다. 이미징 시스템은 이미징 타겟이 상부에 배치되도록 구성된 이미징 표면, 미러 및 캡처 디바이스를 포함한다.  캡처 디바이스는 상기 이미징 타겟으로부터 연장되고 상기 미러로부터 반사하며 상기 캡처 디바이스로 향하는 방출된 광의 경로를 통해 상기 이미징 타겟의 이미...

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Main Authors YEO STEVEN, TOH TIONG HAN, CHEN MINGSONG, SHI BENYONG
Format Patent
LanguageKorean
Published 05.06.2019
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Summary:조명 시스템은 이미징 타겟이 상부에 배치되도록 구성된 표면, 광원, 빔 스플리터 및 적어도 제 1 미러를 포함한다.  빔 스플리터는 광원으로부터의 광 빔을 분리하도록 구성되며, 제 1 미러는 제 1 빔을 빔 스플리터로부터 이미징 타겟을 갖는 표면 상으로 반사시키도록 구성된다. 이미징 시스템은 이미징 타겟이 상부에 배치되도록 구성된 이미징 표면, 미러 및 캡처 디바이스를 포함한다.  캡처 디바이스는 상기 이미징 타겟으로부터 연장되고 상기 미러로부터 반사하며 상기 캡처 디바이스로 향하는 방출된 광의 경로를 통해 상기 이미징 타겟의 이미지를 캡처하도록 구성된다.  미러, 캡처 디바이스 또는 둘 모두는 방사된 광의 경로의 길이를 줄이기 위해 이미징 표면에 대해 대각선 방향으로 이동하도록 구성된다.  이미징 시스템 특성에 기인한 샘플의 이미지 내의 비-균일성을 제거 또는 감소시키기 위해 이미징 시스템을 캘리브레이션하는 시스템 및 방법. An illumination system includes a surface configured to have an imaging target placed thereon, a light source, a beam splitter and at least a first mirror. The beam splitter is configured to split the beam of light from the light source and the first mirror is configured to reflect a first beam from the beam splitter onto the surface with the imaging target. An imaging system includes an imaging surface configured to have an imaging target placed thereon, a mirror, and a capturing device. The capturing device is configured to capture an image of the imaging target through a path of emitted light that extends from the imaging target, reflects off of the mirror, and to the capturing device. The mirror, the capturing device, or both are configured to move in a diagonal direction with respect to the imaging surface to reduce a length of the path of emitted light. Systems and methods to calibrate an imaging system to remove or reduce non-uniformities within images of samples due to imaging system properties.
Bibliography:Application Number: KR20197010678