냉각된 RF 프로브
종 방향으로 연장되고 근위 구역 및 원위 구역을 갖는 프로브를 포함하는 전기 수술 디바이스가 제공된다. 프로브의 내경은 루멘을 형성한다. 프로브는 근위 구역으로부터 원위 구역으로 연장되는 전기 절연부 및 원위 구역에 위치되는 전기 노출 전도부를 갖는다. 전기 노출 전도부는 무선 주파수 에너지를 원위 구역에 인접한 조직의 영역으로 전달한다. 디바이스는 또한 조직의 영역과 열 접촉하는 조직의 영역으로부터 열 에너지를 제거하기 위한 열 전달 시스템을 포함한다. 열 전달 시스템은 조직으로부터 약 0.1 와트 내지 약 50 와트의 에너지를...
Saved in:
Main Authors | , , , , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | Korean |
Published |
05.06.2019
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | 종 방향으로 연장되고 근위 구역 및 원위 구역을 갖는 프로브를 포함하는 전기 수술 디바이스가 제공된다. 프로브의 내경은 루멘을 형성한다. 프로브는 근위 구역으로부터 원위 구역으로 연장되는 전기 절연부 및 원위 구역에 위치되는 전기 노출 전도부를 갖는다. 전기 노출 전도부는 무선 주파수 에너지를 원위 구역에 인접한 조직의 영역으로 전달한다. 디바이스는 또한 조직의 영역과 열 접촉하는 조직의 영역으로부터 열 에너지를 제거하기 위한 열 전달 시스템을 포함한다. 열 전달 시스템은 조직으로부터 약 0.1 와트 내지 약 50 와트의 에너지를 제거한다. 또한, 열 전달 시스템은 루멘 내의 액체를 순환시키기 위한 연동 펌프의 사용 없이 조직으로부터 멀어지는 방향으로 열을 충분히 끌어낼 수 있다.
An electrosurgical device is provided that includes a probe extending in a longitudinal direction and having a proximal region and a distal region. An inner diameter of the probe defines a lumen. The probe has an electrically insulated portion extending from the proximal region to the distal region and an electrically exposed conductive portion located at the distal region. The electrically exposed conductive portion delivers radiofrequency energy to an area of tissue adjacent the distal region. The device also includes a heat transfer system for removing thermal energy from the area of tissue that is in thermal contact with the area of tissue. The heat transfer system removes from about 0.1 Watts to about 50 Watts of energy from the tissue. In addition, the heat transfer system can sufficiently draw heat away from the tissue without the use of a peristaltic pump for circulating a liquid inside the lumen. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: KR20197009356 |