저-방사율 코팅으로 코팅된 기판

본 발명은 적어도 하나의 면에 제1 유전 층, 습윤 층, 은 층 및 제2 유전 층을 포함하는 코팅으로 코팅된 기판을 포함하고, 상기 제1 및 제2 유전 층 중 적어도 하나가 산화물-기재의 유전 층이고 산소-공여 층이 산화물-기재의 유전 층의 근처에 배치되는 것을 특징으로 하는 재료뿐만 아니라, 코팅의 레이저 어닐링을 수반하는 단계를 포함하는, 이러한 재료를 수득하기 위한 방법에 관한 것이다. A material includes a substrate coated, on at least one face, with a coating in...

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Main Authors GUIMARD DENIS, SKOLSKI JOHANN
Format Patent
LanguageKorean
Published 03.06.2019
Subjects
CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS
CHEMISTRY
GLASS
JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
METALLURGY
MINERAL OR SLAG WOOL
SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS
SURFACE TREATMENT OF GLASS
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Summary:본 발명은 적어도 하나의 면에 제1 유전 층, 습윤 층, 은 층 및 제2 유전 층을 포함하는 코팅으로 코팅된 기판을 포함하고, 상기 제1 및 제2 유전 층 중 적어도 하나가 산화물-기재의 유전 층이고 산소-공여 층이 산화물-기재의 유전 층의 근처에 배치되는 것을 특징으로 하는 재료뿐만 아니라, 코팅의 레이저 어닐링을 수반하는 단계를 포함하는, 이러한 재료를 수득하기 위한 방법에 관한 것이다. A material includes a substrate coated, on at least one face, with a coating including a first dielectric layer, a wetting layer, a silver layer and a second dielectric layer. At least one of the first and second dielectric layers is an oxide-based dielectric layer and an oxygen-donating layer is positioned in the vicinity of the oxide-based dielectric layer. A process for obtaining such a material includes a stage of laser annealing of the coating.
Bibliography:Application Number: KR20197008648