SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN

• Main Authors: SATO HIDEAKI, SATOH TAKAMI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 31.05.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

An objective of the present invention is to provide a substrate liquid processing apparatus to prevent a failure of a concentration sensor and prevent dust precipitated from the concentration sensor from being attached to a substrate. According to the present invention, the substrate liquid processing apparatus comprises: a processing liquid storage unit (38) storing a processing liquid for processing a substrate (8); a processing liquid supply unit (39) supplying the processing liquid to the processing liquid storage unit (38); a processing liquid circulation unit (40) circulating the processing liquid in the processing liquid storage unit (38); a processing liquid discharge unit (41) branched from the processing liquid circulation unit (40) to discharge the processing liquid; a concentration sensor (61) installed in the processing liquid discharge unit (41) and measuring the concentration of the processing liquid; and a control unit (7) controlling the processing liquid supply unit. The control unit circulates the processing liquid by the processing liquid circulation unit, discontinuously discharges the circulated processing liquid from the processing liquid discharge unit or continuously discharges the circulated processing liquid from the processing liquid discharge unit for a preset time at a preset timing, supplies a new processing liquid from the processing liquid supply unit, and measures the concentration of the processing liquid with respect to the discharged processing liquid by the concentration sensor at a preset timing. 본 발명은 기판 액처리 장치에 있어서, 농도 센서의 고장 등을 방지하고, 농도 센서로부터 석출되거나 한 먼지가 기판에 부착되는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에서는, 기판(8)을 처리하기 위한 처리액을 저류하는 처리액 저류부(38)와, 처리액 저류부(38)에 처리액을 공급하는 처리액 공급부(39)와, 처리액 저류부(38)의 내부의 처리액을 순환시키는 처리액 순환부(40)와, 처리액 순환부(40)로부터 분기되어 처리액을 배출시키는 처리액 배출부(41)와, 처리액 배출부(41)에 설치되며, 처리액 중의 농도를 계측하는 농도 센서(61)와, 처리액 공급부를 제어하는 제어부(7)를 가지며, 제어부는, 처리액 순환부에 의해 처리액을 순환시키고, 순환시킨 처리액을 미리 정해진 타이밍에서 단속적으로 또는 미리 정해진 시간으로 연속적으로 처리액 배출부로부터 배출시키며, 처리액 공급부로부터 새로운 처리액을 공급하고, 배출시킨 처리액에 대해 미리 정해진 타이밍에서 처리액 중의 농도를 농도 센서에 의해 계측시키는 것으로 한다.