저-방사율 코팅으로 코팅된 기판

• Main Authors: GUIMARD DENIS, SKOLSKI JOHANN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 29.05.2019
• Subjects: CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS; CHEMISTRY; GLASS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS; SURFACE TREATMENT OF GLASS

본 발명은 적어도 하나의 면 상에 제1 유전 층, 습윤 층, 은 층 및 제2 유전 층을 포함하는 코팅으로 코팅된 기판을 포함하고, 상기 제1 및 제2 유전 층 중 적어도 하나가 산화물-기재의 유전 층이고 산소 장벽 층이 산화물-기재의 유전 층과 습윤 층 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 재료뿐만 아니라, 코팅의 레이저 어닐링을 수반하는 단계를 포함하는, 이러한 재료를 수득하기 위한 방법에 관한 것이다. The invention relates to a material comprising a substrate coated on at least one face with a coating including a first dielectric layer, a wetting layer, a silver layer, and a second dielectric layer, characterised in that at least one of said first and second dielectric layers is an oxide-based dielectric layer and an oxygen barrier layer is disposed between the oxide-based dielectric layer and the wetting layer; as well as to a method for obtaining such a material, said method comprising a step involving the laser annealing of the coating.