Apparatus and Method for Calibrating Temperature Measuring Wafer Senser

• Main Authors: KIM TAE WAN, KWON SU YONG, KIM YONG GYOO, KANG SANG WOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 17.05.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; COLORIMETRY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; MEASURING; PHYSICS; RADIATION PYROMETRY; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

According to the present invention, a calibrating apparatus for a temperature measuring wafer sensor outputs laser beams to each temperature sensor formed on the temperature wafer sensor, heats the same so that each temperature sensor can reach a specific temperature, and calculates a calibrating value in accordance with a deviation between a measured temperature value and a reference value after measuring the temperature of each temperature sensor. The present invention can perform simple and accurate inspection since laser beams are used as a heating means for inspecting the temperature measuring wafer sensor. In addition, the present invention can maintain high reliability of a process since various problems such as production yield reduction or the like, caused by the wrong wafer temperature inspection in the actual semiconductor manufacturing process can be prevented. 본 발명에 따른 온도 측정 웨이퍼 센서의 교정 장치는 온도 측정 웨이퍼 센서에 형성되어 있는 각 온도 센서로 레이저 빔을 출력하여 각 온도 센서가 특정 온도가 되도록 가열하고, 각 온도 센서의 온도를 측정한 후, 측정된 온도 값과 기준값의 편차에 따라 교정 값을 산출한다. 온도 측정 웨이퍼 센서를 검사하기 위한 가열 수단으로 레이저 빔을 사용하므로 간단하고 정확한 검사가 가능해진다. 또한, 실제 반도체 제조 공정에서 잘못된 웨이퍼 온도 검사에 따른 생산 수율 감소 등 여러 문제점을 막을 수 있어 공정의 신뢰도를 높게 유지할 수 있다.