SUBSTRATE TREATING APPARAUS AND SUBSTRATE SUPPORTING UNIT

• Main Authors: CHOI HYUN KYU, CHANG LOUNGSUE, YANG JUNGYOON
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 15.05.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate support unit, which don′t bring internal air of a chamber reaching a bevel portion of a substrate in contact with an edge ring and flow through a flow path provided to the edge ring, thereby providing an advantage of preventing a vortex from being generated in the substrate bevel portion. 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 지지 유닛에 관한 것으로, 기판의 베벨부에 도달한 챔버 내기가 에지 링과 맞부딪치지 않고, 에지 링에 제공된 유로를 통해 유동됨으로써, 기판 베벨부에 와류가 생성되는 것이 방지되는 효과가 있는, 기판 처리 장치 및 기판 지지 유닛을 제공한다.