RIPK2의 저해제로서의 헤테로아릴 카복스아미드 화합물

• Main Authors: LIU PINGRONG, PADYANA ANIL K, MILLER CRAIG ANDREW, RUPPEL SABINE, ZHANG ZHONGHUA, YU MAOLIN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 07.05.2019
• Subjects: CHEMISTRY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HUMAN NECESSITIES; HYGIENE; MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES

본 발명은 화학식 (I)의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이들 화합물을 포함하는 약제학적 조성물, 각종 질환 및 장애의 치료에 이들 화합물을 사용하는 방법, 이들 화합물의 제조 방법, 및 이들 방법에 유용한 중간체에 관한 것이다. 화학식 (I)상기 화학식 (I)에서, R, R, X, Y, 및 HET는 본원에 정의된 바와 같다. The present invention relates to compounds of formula (I):or pharmaceutically acceptable sa...