RIPK2의 저해제로서의 헤테로아릴 카복스아미드 화합물

본 발명은 화학식 (I)의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이들 화합물을 포함하는 약제학적 조성물, 각종 질환 및 장애의 치료에 이들 화합물을 사용하는 방법, 이들 화합물의 제조 방법, 및 이들 방법에 유용한 중간체에 관한 것이다. 화학식 (I)상기 화학식 (I)에서, R, R, X, Y, 및 HET는 본원에 정의된 바와 같다. The present invention relates to compounds of formula (I):or pharmaceutically acceptable sa...

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Main Authors LIU PINGRONG, PADYANA ANIL K, MILLER CRAIG ANDREW, RUPPEL SABINE, ZHANG ZHONGHUA, YU MAOLIN
Format Patent
LanguageKorean
Published 07.05.2019
Subjects
CHEMISTRY
HETEROCYCLIC COMPOUNDS
HUMAN NECESSITIES
HYGIENE
MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES
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Summary:본 발명은 화학식 (I)의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이들 화합물을 포함하는 약제학적 조성물, 각종 질환 및 장애의 치료에 이들 화합물을 사용하는 방법, 이들 화합물의 제조 방법, 및 이들 방법에 유용한 중간체에 관한 것이다. 화학식 (I)상기 화학식 (I)에서, R, R, X, Y, 및 HET는 본원에 정의된 바와 같다. The present invention relates to compounds of formula (I):or pharmaceutically acceptable salts thereof, wherein R1, R2, X, Y, and HET are as defined herein. The invention also relates to pharmaceutical compositions comprising these compounds, methods of using these compounds in the treatment of various diseases and disorders, processes for preparing these compounds and intermediates useful in these processes
Bibliography:Application Number: KR20197010671