Substrate treating apparatus and substrate treating method

본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 챔버; 상기 챔버 내측에 위치되어 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 챔버에 연결되는 공급 라인; 및 상기 공급 라인에 연결되어 초임계 유체와 공정액이 혼합된 상태의 혼합 처리액을 공급하는 초임계 유체 저장부를 포함한다....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors LEE, JAE SEONG, LEE, SANG HO, JEONG, JI SOO, LIM, KWON TAEK, HEO, CHAN YOUNG, CHOI HAE WON, KANG, KI MOON, ANTON KORIAKIN, CHOI, KI HOON, KIM, YONG HUN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 26.04.2019
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 챔버; 상기 챔버 내측에 위치되어 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 챔버에 연결되는 공급 라인; 및 상기 공급 라인에 연결되어 초임계 유체와 공정액이 혼합된 상태의 혼합 처리액을 공급하는 초임계 유체 저장부를 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20170134311