METHOD AND APPARATUS FOR PATTERNING GRAPHENE

전해질 액적에 전압을 인가하고, 전해질 액적이 기판 및 그래핀 사이로 침투하도록 제어하여, 침투된 전해질 액적으로 인해 그래핀을 기판으로부터 선택적으로 릴리즈(release)시켜서 패터닝된 그래핀을 형성시키는 그래핀 패터닝 방법이 개시된다....

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Main Authors PARK JUN HA, CHOI JAE WU
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 01.04.2019
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CABLES
CINEMATOGRAPHY
CONDUCTORS
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
INSULATORS
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING ORDIELECTRIC PROPERTIES
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Summary:전해질 액적에 전압을 인가하고, 전해질 액적이 기판 및 그래핀 사이로 침투하도록 제어하여, 침투된 전해질 액적으로 인해 그래핀을 기판으로부터 선택적으로 릴리즈(release)시켜서 패터닝된 그래핀을 형성시키는 그래핀 패터닝 방법이 개시된다.
Bibliography:Application Number: KR20170122767