리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법

• Main Authors: LOOPSTRA ERIK ROELOF, WIJCKMANS MAURICE WILLEM JOZEF ETIENNE, BUTLER HANS, GEUPPERT BERNHARD MATHIAS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.03.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 리소그래피 장치에 관한 것이며, 리소그래피 장치는: 리소그래피 장치(1)를 지지면(9) 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임(10); 및 투영 시스템(20)을 포함하고, 투영 시스템(20)은: 힘 프레임(30); 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소(21); 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임(40); 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서 요소를 포함하는 적어도 하나의 센서(25); 베이스 프레임 상에서 힘 프레임을 지지하도록 구성되는 힘 프레임 지지체(31); 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임(45); 센서 프레임을 중간 프레임에 커플링하도록 구성되는 센서 프레임 커플러(41); 및 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 베이스 프레임 상에서 중간 프레임을 지지하도록 구성되는 중간 프레임 지지체(46)를 포함한다. The present invention relates to a lithographic apparatus, comprising: -a base frame (10), adapted for mounting the lithographic apparatus (1) on a support surface (9), -a projection system (20) comprising: -a force frame (30), -an optical element (21) which is moveable relative to the force frame, -a sensor frame (40), which is separate from the force frame, -at least one sensor which is adapted to monitor the optical element, comprising at least one sensor (25) element which is mounted to the sensor frame, -a force frame support (31), which is adapted to support the force frame on the base frame, -an intermediate frame (45), which is separate from the force frame, -a sensor frame coupler (41), which is adapted to couple the sensor frame to the intermediate frame, -an intermediate frame support (46), which is separate from the force fame support and adapted to support the intermediate frame on the base frame.