유기 전하 수송 막의 제조 공정

• Main Authors: DEVORE DAVID D, GIES ANTHONY P, TREFONAS PETER III, REMY MATTHEW S, KEARNS KENNETH L, BELL BRUCE M, FENG SHAOGUANG, AQAD EMAD, SPENCER LIAM P, INMAN ASHLEY, LI YANG, GRIGG ROBERT DAVID, LIU CHUN, ZHU MINRONG, MUKHOPADHYAY SUKRIT
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.02.2019
• Subjects: ADHESIVES; CHEMISTRY; DYES; ELECTRICITY; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; PAINTS; POLISHES

본 발명은 유기 전하 수송 막을 제조하는데 유용한 단일 액상 제형을 제공한다. 제형은 다음을 포함한다: (a) 적어도 3,000의 M를 갖고 아릴메톡시 결합을 포함하는 중합체 수지, (b) 4 이하의 pKa를 갖는 유기 브론스텐 산, 양의 방향족 이온과 (i) 다음 화학식을 갖는 테트라아릴 보레이트[상기 식에서, R은 D, F 및 CF으로부터 선택된 0 내지 5개의 비-수소 치환기를 나타낸다], (ii) BF, (iii) PF, (iv) SbF, (v) AsF또는 (vi) ClO인 음이온을 포함하는 루이스 산인 산 촉매, 또는 열 산 발생제. A single liquid phase formulation useful for producing an organic charge transporting film. The formulation contains: (a) a polymer resin having Mw at least 3,000 and having arylmethoxy linkages; (b) an acid catalyst which is an organic Bronsted acid with pKa≤4; a Lewis acid comprising a positive aromatic ion and an anion which is (i) a tetraaryl borate having the formula (I) wherein R represents zero to five non-hydrogen substituents selected from D, F and CF3, (ii) BF4 -, (iii) PF6 -, (iv) SbF6 -, (v) AsF6 - or (vi) ClO4 -; or a thermal acid generator.