방사선 소스

정렬 마크 측정 시스템을 위한 초연속 방사선 소스는: 방사선 소스; 조명 광학기; 복수의 도파관들; 및 수집 광학기를 포함한다. 방사선 소스는 펄스화된 방사선 빔을 생성하도록 작동가능하다. 조명 광학기는 펄스화된 펌프 방사선 빔을 수용하고, 복수의 펄스화된 서브-빔들을 형성하도록 배치되며, 각각의 펄스화된 서브-빔은 펄스화된 펌프 방사선 빔의 일부분을 포함한다. 복수의 도파관들 각각은 복수의 펄스화된 서브-빔들 중 적어도 하나를 수용하고, 그 펄스화된 서브-빔의 스펙트럼을 확장하여 초연속 서브-빔을 생성하도록 배치된다. 수집 광학기...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors HUISMAN SIMON REINALD, KUMAR NITISH
Format Patent
LanguageKorean
Published 18.02.2019
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:정렬 마크 측정 시스템을 위한 초연속 방사선 소스는: 방사선 소스; 조명 광학기; 복수의 도파관들; 및 수집 광학기를 포함한다. 방사선 소스는 펄스화된 방사선 빔을 생성하도록 작동가능하다. 조명 광학기는 펄스화된 펌프 방사선 빔을 수용하고, 복수의 펄스화된 서브-빔들을 형성하도록 배치되며, 각각의 펄스화된 서브-빔은 펄스화된 펌프 방사선 빔의 일부분을 포함한다. 복수의 도파관들 각각은 복수의 펄스화된 서브-빔들 중 적어도 하나를 수용하고, 그 펄스화된 서브-빔의 스펙트럼을 확장하여 초연속 서브-빔을 생성하도록 배치된다. 수집 광학기는 복수의 도파관들 각각으로부터 초연속 서브-빔을 수용하고, 이들을 조합하여 초연속 방사선 빔을 형성하도록 배치된다. A supercontinuum radiation source for an alignment mark measurement system comprises: a radiation source; illumination optics; a plurality of waveguides; and collection optics. The radiation source is operable to produce a pulsed radiation beam. The illumination optics is arranged to receive the pulsed pump radiation beam and to form a plurality of pulsed sub-beams, each pulsed sub-beam comprising a portion of the pulsed radiation beam. Each of the plurality of waveguides is arranged to receive at least one of the plurality of pulsed sub-beams beam and to broaden a spectrum of that pulsed sub-beam so as to generate a supercontinuum sub-beam. The collection optics is arranged to receive the supercontinuum sub-beam from each of the plurality of waveguides and to combine them so as to form a supercontinuum radiation beam.
Bibliography:Application Number: KR20197000663