IMAGE SENSOR
Provided is an image sensor capable of implementing high resolution. The image sensor comprises: an insulating pattern disposed on a semiconductor substrate and having an opening; a color filter disposed in the opening of the insulating pattern; a capping insulating layer disposed on the color filte...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
30.01.2019
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Summary: | Provided is an image sensor capable of implementing high resolution. The image sensor comprises: an insulating pattern disposed on a semiconductor substrate and having an opening; a color filter disposed in the opening of the insulating pattern; a capping insulating layer disposed on the color filter; a first electrode disposed on the capping insulating layer and having a region overlapping the color filter; an isolation structure surrounding a side surface of the first electrode; and a photoelectric layer on the first electrode. The isolation structure includes first and second insulating layers formed of different materials.
이미지 센서를 제공한다. 이 이미지 센서는 반도체 기판 상에 배치되며 개구부를 갖는 절연 패턴; 상기 절연 패턴의 상기 개구부 내에 배치되는 컬러 필터; 상기 컬러 필터 상에 배치되는 캐핑 절연 층; 상기 캐핑 절연 층 상에 배치되며 상기 컬러 필터와 중첩하는 부분을 갖는 제1 전극; 상기 제1 전극의 측면을 둘러싸는 분리 구조체; 및 상기 제1 전극 상의 광전 층을 포함한다. 상기 분리 구조체는 서로 다른 물질로 형성되는 제1 절연 층 및 제2 절연 층을 포함한다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20170092476 |