X- X-RAY BASED MEASUREMENTS IN PATTERNED STRUCTURE

• Main Author: BARAK GILAD
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 29.01.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION; MEASURING; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

Disclosed are a method and a system to be used for X-ray based measurement for a patterned structure, capable of optimizing a measurement method. According to present invention, method comprises a step of processing data displaying a measurement signal corresponding to a radiation response detected from a structure patterned by incident X-ray and a step of offsetting an effective measurement signal substantially not having a background noise from data. The effective measurement signal is formed with a radiation component of a reflective diffraction order to allow model-based analysis of the effective measurement signal to determine one or more parameters of a patterned structure. The processing step comprises a step of analyzing the measurement signal to extract a background signal corresponding to background noise from the measurement signal and a step of offsetting a signal corresponding to the background signal from the measurement signal to acquire the effective measurement signal. 패턴화된 구조물의 X-선 기반 측정에 사용하기 위한 방법 및 시스템이 제시된다. 이 방법은 입사 X-선에 패턴화된 구조물의 검출된 복사선 응답에 대응하는 측정 신호를 표시하는 데이터를 처리하는 단계와, 상기 데이터로부터 실질적으로 배경 노이즈가 없는 유효 측정 신호를 차감하는 단계를 포함하고, 상기 유효 측정 신호는 반사 회절 차수의 복사선 성분으로 형성되어, 유효 측정 신호의 모델 기반 해석이 패턴화된 구조물의 하나 이상의 파라미터를 결정할 수 있게 하며, 상기 처리하는 단계는, 측정 신호를 분석하여 측정 신호로부터 배경 노이즈에 대응하는 배경 신호를 추출하는 단계와, 측정 신호에 필터링 과정을 적용하여 측정 신호로부터 배경 신호에 대응하는 신호를 차감하여, 유효 측정 신호를 얻는 단계를 포함한다.