초순수 제조 장치의 기동 방법
본 발명은 초순수 제조 개시 후의 미립자수의 헌팅 현상을 억제하여, 미립자 농도가 매우 낮은 초순수를 안정적으로 얻을 수 있는 초순수 제조 장치(1)의 기동 방법을 제공하는 것으로, 1차 순수를 처리하여 초순수를 제조하고, 사용 장소에 공급하는 초순수 제조 장치(1)에 있어서, 상기 초순수를 상기 사용 장소에 공급하기에 앞서 상기 초순수 제조 장치(1) 계내를 세정하는 초순수 제조 장치(1)의 기동 방법으로서, 상기 초순수 제조 장치(1)의 유로에 과산화수소 또는 기체를 함유하는 순수를 체류 내지 통류시켜, 상기 유로의 적어도 일부...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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16.01.2019
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Summary: | 본 발명은 초순수 제조 개시 후의 미립자수의 헌팅 현상을 억제하여, 미립자 농도가 매우 낮은 초순수를 안정적으로 얻을 수 있는 초순수 제조 장치(1)의 기동 방법을 제공하는 것으로, 1차 순수를 처리하여 초순수를 제조하고, 사용 장소에 공급하는 초순수 제조 장치(1)에 있어서, 상기 초순수를 상기 사용 장소에 공급하기에 앞서 상기 초순수 제조 장치(1) 계내를 세정하는 초순수 제조 장치(1)의 기동 방법으로서, 상기 초순수 제조 장치(1)의 유로에 과산화수소 또는 기체를 함유하는 순수를 체류 내지 통류시켜, 상기 유로의 적어도 일부에 외부로부터 진동을 가하고, 상기 유로의 내표면에 부착된 미립자를 제거한다.
Provided is a method for starting an ultrapure water production apparatus (1) whereby the phenomenon of hunting for a fine particle count after the start of ultrapure water production can be suppressed and ultrapure water having an extremely low concentration of fine particles can be stably obtained. A method for starting an ultrapure water production apparatus (1), comprising cleaning an inside system of the ultrapure water production apparatus (1) prior to supplying of ultrapure water to a usage location in an ultrapure water production apparatus (1) for processing primary pure water to produce ultrapure water and supplying the ultrapure water to the usage location, wherein pure water containing hydrogen peroxide or a gas is caused to accumulate in or flow through a flow channel of the ultrapure water production apparatus (1), vibration is imparted from the outside to at least a portion of the flow channel, and fine particles adhering to an inside surface of the flow channel are removed. |
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Bibliography: | Application Number: KR20187031072 |