타정공이 또는 절구 및 그것을 포함하는 타정장치
타정공이(14, 16) 또는 절구(13)는, 기재(10)와, 기재(10)상의 타정표면층(20)을 구비하고 있다. 타정표면층(20)은, 질소와 4A족 원소를 함유하는 결정질의 산화이트륨을 포함한다. A tableting punch (14, 16) or a die (13) includes a base material (10) and a tableting surface layer (20) on the base material (10). The tableting surface layer (20) includes crystalline ytt...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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26.12.2018
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Summary: | 타정공이(14, 16) 또는 절구(13)는, 기재(10)와, 기재(10)상의 타정표면층(20)을 구비하고 있다. 타정표면층(20)은, 질소와 4A족 원소를 함유하는 결정질의 산화이트륨을 포함한다.
A tableting punch (14, 16) or a die (13) includes a base material (10) and a tableting surface layer (20) on the base material (10). The tableting surface layer (20) includes crystalline yttrium oxide containing nitrogen and a group 4A element. |
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Bibliography: | Application Number: KR20187031057 |