조명 빔 오정렬의 보정을 위한 시스템 및 방법

시스템은 입사 빔을 조정하여 정정된 빔을 형성하도록 구성된 빔 조향 어셈블리, 정정된 빔의 하나 이상의 오프셋 파라미터를 포함하는 정정된 빔에 대한 모니터링 데이터를 생성하도록 구성된 빔 모니터링 어셈블리, 그리고 컨트롤러를 포함하며, 상기 컨트롤러는, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터를 저장하고, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터와 하나 이상의 오프셋 파라미터 사이의 적어도 하나의 차이를 계산하고, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터와 하나 이상의 오프셋 파라미터 사이의 적어도 하나의 차이에 기초하여 입사 빔의 하나...

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Main Authors XU ZHIWEI STEVE, AUYEUNG KWAN, YUDITSKY YURY, LI FRANK, SWISHER TIMOTHY
Format Patent
LanguageKorean
Published 12.12.2018
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Summary:시스템은 입사 빔을 조정하여 정정된 빔을 형성하도록 구성된 빔 조향 어셈블리, 정정된 빔의 하나 이상의 오프셋 파라미터를 포함하는 정정된 빔에 대한 모니터링 데이터를 생성하도록 구성된 빔 모니터링 어셈블리, 그리고 컨트롤러를 포함하며, 상기 컨트롤러는, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터를 저장하고, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터와 하나 이상의 오프셋 파라미터 사이의 적어도 하나의 차이를 계산하고, 정정된 빔의 하나 이상의 제로 파라미터와 하나 이상의 오프셋 파라미터 사이의 적어도 하나의 차이에 기초하여 입사 빔의 하나 이상의 빔 위치 조정을 결정하고, 하나 이상의 모터 드라이버를 통해 하나 이상의 모터를 구동함으로써 입사 빔을 조정하여 정정된 빔을 형성할 것을 빔 조향 어셈블리에게 지시하도록 구성된다. A system includes a beam steering assembly configured to adjust an incident beam to form a corrected beam; a beam monitoring assembly configured to generate monitoring data for the corrected beam including one or more offset parameters of the corrected beam; and a controller configured to store one or more zero parameters of the corrected beam, calculate at least one difference between the one or more zero parameters and the one or more offset parameters of the corrected beam, determine one or more beam position adjustments of the incident beam based on the at least one difference between the one or more zero parameters and the one or more offset parameters of the corrected beam, and direct the beam steering assembly via one or more motor drivers to actuate one or more motors to adjust the incident beam to form the corrected beam.
Bibliography:Application Number: KR20187033743