포지티브형 감광성 재료

• Main Authors: CHEN CHUNWEI, LU PINGHUNG, LIU WEIHONG, LAI SOOKMEE, SAKURAI YOSHIHARU, HISHIDA ARITAKA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.12.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 특허 출원은 후막을 이미징하는 데 특히 유용한 감광성 포지티브형 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물을 사용하면, 매우 우수한 막 균일성이 얻어지고, 후막을 이미징 및 현상할 때, 형성된 패턴에 있어서의 피쳐 패턴 붕괴에 대한 우수한 공정 여유도가 촉진된다. The present application for patent relates to a light-sensitive positive working photosensitive composition especially useful for imaging thick fil...