포지티브형 감광성 재료

본 특허 출원은 후막을 이미징하는 데 특히 유용한 감광성 포지티브형 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물을 사용하면, 매우 우수한 막 균일성이 얻어지고, 후막을 이미징 및 현상할 때, 형성된 패턴에 있어서의 피쳐 패턴 붕괴에 대한 우수한 공정 여유도가 촉진된다. The present application for patent relates to a light-sensitive positive working photosensitive composition especially useful for imaging thick fil...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors CHEN CHUNWEI, LU PINGHUNG, LIU WEIHONG, LAI SOOKMEE, SAKURAI YOSHIHARU, HISHIDA ARITAKA
Format Patent
LanguageKorean
Published 12.12.2018
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:본 특허 출원은 후막을 이미징하는 데 특히 유용한 감광성 포지티브형 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물을 사용하면, 매우 우수한 막 균일성이 얻어지고, 후막을 이미징 및 현상할 때, 형성된 패턴에 있어서의 피쳐 패턴 붕괴에 대한 우수한 공정 여유도가 촉진된다. The present application for patent relates to a light-sensitive positive working photosensitive composition especially useful for imaging thick films using a composition which gives very good film uniformity and promotes a good process latitude against feature pattern collapse in patterns created upon imaging and developing of these films.
Bibliography:Application Number: KR20187033327