롤-투-롤 원자 층 침착 장치 및 방법

방법이 제공된다. 본 방법은 기재의 제1 표면 상의 제1 에지 영역을 제1 지지 롤러와 맞물리게 하는 단계; 기재의 제1 표면 상의 제2 에지 영역을 제2 지지 롤러와 맞물리게 하는 단계; 기재를 제1 및 제2 지지 롤러 위로 이송하는 단계; 기재 상에 박막을 형성하기 위해 하기 일련의 단계를 반복하는 단계: (a) 기재를 제1 전구체에 노출시키는 단계, 및 (b) 기재를 제1 전구체에 노출시킨 후에 기재에 반응성 종(reactive species)을 공급하는 단계; 및 박막 상에 증기를 침착시켜 박막 상에 코팅을 형성하는 단계를...

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Main Authors SPAGNOLA JOSEPH C, GOYAL AMEETA R, LYONS CHRISTOPHER S, DODGE BILL H, SWANSON RONALD P, DOBBS JAMES N, JERRY GLEN A
Format Patent
LanguageKorean
Published 07.12.2018
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Summary:방법이 제공된다. 본 방법은 기재의 제1 표면 상의 제1 에지 영역을 제1 지지 롤러와 맞물리게 하는 단계; 기재의 제1 표면 상의 제2 에지 영역을 제2 지지 롤러와 맞물리게 하는 단계; 기재를 제1 및 제2 지지 롤러 위로 이송하는 단계; 기재 상에 박막을 형성하기 위해 하기 일련의 단계를 반복하는 단계: (a) 기재를 제1 전구체에 노출시키는 단계, 및 (b) 기재를 제1 전구체에 노출시킨 후에 기재에 반응성 종(reactive species)을 공급하는 단계; 및 박막 상에 증기를 침착시켜 박막 상에 코팅을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. A method is provided. The method may include engaging a first edge region on a first surface of a substrate with a first support roller; engaging a second edge region on the first surface of the substrate with a second support roller; transporting the substrate over the first and the second support rollers; repeating the following sequence of steps to form a thin film on the substrate: (a) exposing the substrate to a first precursor; (b) supplying a reactive species to the substrate after exposing the substrate to the first precursor; and depositing a vapor on the thin film to form a coating on the thin film.
Bibliography:Application Number: KR20187031466