Semiconductor Device
Provided is a semiconductor apparatus with improved operation performance. The semiconductor apparatus comprises: a substrate; first to fifth pins protruding and extending in a first direction on the substrate and spaced apparat from each other in a second direction crossing the first direction; and...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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04.12.2018
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Summary: | Provided is a semiconductor apparatus with improved operation performance. The semiconductor apparatus comprises: a substrate; first to fifth pins protruding and extending in a first direction on the substrate and spaced apparat from each other in a second direction crossing the first direction; and first to fourth trench sequentially formed between the first to fifth pins, wherein a width difference of the first and the third trench is less than a first deformation value, a width difference of the second and the fourth trench is less than a second deformation value, and the second deformation value is greater than the first deformation value.
반도체 장치가 제공된다. 상기 반도체 장치는 기판, 상기 기판 상에서 돌출되어 제1 방향으로 연장되고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이격되는 제1 내지 제5 핀 및 상기 제1 내지 제5 핀 사이에 순차적으로 형성되는 제1 내지 제4 트렌치로서, 상기 제1 및 제3 트렌치의 폭의 차이는 제1 변형 값보다 작고, 상기 제2 및 제4 트렌치의 폭의 차이는 제2 변형 값보다 작고, 상기 제2 변형 값은 상기 제1 변형 값보다 크다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20170063988 |