입사 전자기파들로부터 근거리 구역에서 필드 강도 패턴을 형성하기 위한 디바이스

본 개시는 디바이스에 입사되는 전자기파들로부터, 근거리 구역에서 필드 강도 패턴을 형성하기 위한 디바이스(132)에 관한 것이다. 특히, 이러한 디바이스는 디바이스에 입사되는 전자기파를 근거리 구역에서 복사 빔에 가두는 것을 허용한다. 그것은 적어도 하나의 유전체 재료 층(112)을 포함하고, 그 표면은 단차를 형성하는 레벨의 적어도 하나의 급격한 변화를 갖는다. 상기 단차에 대한 상기 표면의 아래쪽 및 측면 부분은 상기 유전체 재료의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가진 물질과 접촉한다. 이러한 단차 부근에서 디바이스에 충돌하는 입사 전...

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Main Authors BORISKIN ARTEM, BLONDE LAURENT
Format Patent
LanguageKorean
Published 09.11.2018
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Summary:본 개시는 디바이스에 입사되는 전자기파들로부터, 근거리 구역에서 필드 강도 패턴을 형성하기 위한 디바이스(132)에 관한 것이다. 특히, 이러한 디바이스는 디바이스에 입사되는 전자기파를 근거리 구역에서 복사 빔에 가두는 것을 허용한다. 그것은 적어도 하나의 유전체 재료 층(112)을 포함하고, 그 표면은 단차를 형성하는 레벨의 적어도 하나의 급격한 변화를 갖는다. 상기 단차에 대한 상기 표면의 아래쪽 및 측면 부분은 상기 유전체 재료의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가진 물질과 접촉한다. 이러한 단차 부근에서 디바이스에 충돌하는 입사 전자기파에 대해, 그것이 마주치는 대응하는 굴절률의 단차는 복잡한 전자기 현상을 생성하고, 이는 근거리 구역에서 저-분산형 응축 빔들(55) 및 특정 필드 패턴들을 생성하는 것을 허용한다. The present disclosure concerns a device (132) for forming a field intensity pattern in the near zone, from electromagnetic waves which are incident on said device. Notably, such a device allows confining electromagnetic waves, which are incident on the device, into beams of radiation in the near zone. It comprises at least one layer of dielectric material (112), which surface has at least one abrupt change of level forming a step. A lower and lateral part of said surface with respect to said step is in contact with a substance having a refractive index lower than that of said dielectric material. For an incident electromagnetic wave impinging upon the device in the vicinity of such a step, the corresponding step of index it encounters produces a complex electromagnetic phenomenon, which allows generating low-dispersive condensed beams (55) and specific field patterns in the near zone.
Bibliography:Application Number: KR20187027190