나노입자 제조
적어도 하나의 나노입자를 제조하는 방법들은 하나 이상의 기판들을 제공하는 단계; 및 하나 이상의 기판들 상에 물질을 퇴적하는 단계를 포함한다. 물질의 적어도 하나의 부분은 적어도 하나의 부분이 기판과 물질 사이의 접착력들보다 더 큰 물질의 응집력들로 인해 하나 이상의 기판들 상에서 비딩 업하도록 가열되거나 또는 어닐링된다. 일부 방법들에서, 적어도 하나의 부분을 한정하기 위해 패턴 발생 프로세스가 수행된다. 물질에 대한 물질 재료와 하나 이상의 기판들에 대한 기판 재료의 조합은 또한 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 형상으로 비딩...
Saved in:
Main Authors | , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | Korean |
Published |
31.10.2018
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | 적어도 하나의 나노입자를 제조하는 방법들은 하나 이상의 기판들을 제공하는 단계; 및 하나 이상의 기판들 상에 물질을 퇴적하는 단계를 포함한다. 물질의 적어도 하나의 부분은 적어도 하나의 부분이 기판과 물질 사이의 접착력들보다 더 큰 물질의 응집력들로 인해 하나 이상의 기판들 상에서 비딩 업하도록 가열되거나 또는 어닐링된다. 일부 방법들에서, 적어도 하나의 부분을 한정하기 위해 패턴 발생 프로세스가 수행된다. 물질에 대한 물질 재료와 하나 이상의 기판들에 대한 기판 재료의 조합은 또한 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 형상으로 비딩 업하도록 선택될 수도 있다. 또한 나노입자 사이즈를 추가로 감소시키기 위해 물질이 하나 이상의 기판들 상에 서브-단일층 두께 또는 간극들로 퇴적될 수도 있다.
Methods for fabricating at least one nanoparticle include providing one or more substrates and depositing a substance on the one or more substrates. At least one portion of the substance is heated or annealed so the at least one portion beads up on the one or more substrates due to cohesive forces of the substance being greater than adhesive forces between the substrate and the substance. In some methods, a pattern generation process is performed to define the at least one portion. A combination of a substance material for the substance and a substrate material for the one or more substrates may also be selected so that the at least one portion beads up into a predetermined shape. The substance may also be deposited on the one or more substrates with a sub-monolayer thickness or with gaps to further reduce a nanoparticle size. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: KR20187027731 |