합성 제조된 석영 유리의 디퓨저 재료 및 완전히 또는 부분적으로 이로 이루어지는 성형체의 제조 방법

• Main Authors: NUERNBERG FRANK, SCHEICH GERRIT, KLETT URSULA, FRANZ BERNHARD, TSCHOLITSCH NADINE, DONELON MATTHEW, GOETZENDORFER ANDREAS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.10.2018
• Subjects: CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS; CHEMISTRY; GLASS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS; MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS; SURFACE TREATMENT OF GLASS

공지된 합성 제조된 기공-함유 석영 유리의 디퓨저 재료는 적어도 99.9% SiO의 화학 순도, 1% 이하의 크리스토발라이트 함량, 및 2.0∼2.18 g/cm범위의 밀도를 가진다. 이로부터 출발하여, 넓은 파장 범위에 걸쳐 램버시안 거동을 갖는 확산 반사성, 높은 재료 균일성 및 자외선 내성에 있어 개선된 디퓨저 재료를 제공하기 위하여, 본 발명에 따르면, 석영 유리가 적어도 200 중량 ppm 범위의 수산기 함량을 가지며, 기공의 80% 이상이 20 μm 미만의 최대 기공 치수를 갖는 것이 제안된다. A diffuser material of synthetically produced, pore-containing quartz glass and a method for the manufacture of a molded body consisting fully or in part thereof. The diffuser material has a chemical purity of at least 99.9% SiO2, a cristobalite content of not more than 1%, and a density in the range of 2.0 to 2.18 g/cm3. Starting therefrom, to indicate a diffuser material which is improved with respect to diffuse reflectivity with Lambertian behavior over a wide wavelength range, high material homogeneity and UV radiation resistance, the quartz glass has a hydroxyl group content in the range of at least 200 wt. ppm and at least 80% of the pores have a maximum pore dimension of less than 20 μm.