진공 시스템에서 사용하기 위한 캐리어, 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 기판의 진공 프로세싱을 위한 방법

• Main Authors: SCHULTHEIS MICHAEL RAINER, VERCESI TOMMASO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.10.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 개시내용은 진공 시스템(300)에서 사용하기 위한 캐리어(100)를 제공한다. 캐리어(100)는 하나 또는 그 초과의 전자 디바이스들(130)을 수용하도록 그리고 진공 시스템(300)에서의 캐리어(100)의 사용 동안 가스상 환경을 포함하도록 구성된 하우징(120)을 포함하고, 캐리어(100)는 진공 프로세싱 동안 사용되는 기판(10) 및 마스크(20) 중 적어도 하나를 홀딩하도록 구성된다. The present disclosure provides a carrier (100) for use in a vacuum system (300). The carrier (100) includes a housing (120) configured to accommodate one or more electronic devices (130) and contain a gaseous environment during the use of the carrier (100) in the vacuum system (300), wherein the carrier (100) is configured to hold at least one of a substrate (10) and a mask (20) used during vacuum processing.