세정 조성물

본 발명은 20 - 90 중량%의 디메틸 술폭시드, 최대 30 중량%의 적어도 하나의 광유(M), 및 최대 50 중량%의 적어도 하나의 양극성 유기 용매 (L)를 포함하는 세정 조성물에 관한 것인데, 명시된 백분율 범위는 세정 조성물의 총 중량에 관한 것이다. 본 발명은 또한 사용을 위한 세정 조성물이 적용되는 부재의 세정 방법 및 세정된 부재 그 자체에 관한 것이다. Provided herein is a cleaning composition including: from 20 to 90% by weight of dimethyl su...

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Main Authors LUHMANN NADIA, MATURA MICHAEL, STEINMETZ BERNHARD, JANKOWSKI PEGGY
Format Patent
LanguageKorean
Published 27.09.2018
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Summary:본 발명은 20 - 90 중량%의 디메틸 술폭시드, 최대 30 중량%의 적어도 하나의 광유(M), 및 최대 50 중량%의 적어도 하나의 양극성 유기 용매 (L)를 포함하는 세정 조성물에 관한 것인데, 명시된 백분율 범위는 세정 조성물의 총 중량에 관한 것이다. 본 발명은 또한 사용을 위한 세정 조성물이 적용되는 부재의 세정 방법 및 세정된 부재 그 자체에 관한 것이다. Provided herein is a cleaning composition including: from 20 to 90% by weight of dimethyl sulfoxide, from 5 to 30% by weight of at least one mineral oil (M), and from 5 to 50% by weight of at least one bipolar organic solvent (L). The ranges of proportions indicated are in each case based on the total weight of the cleaning composition. Also provided herein is a method of cleaning components by employing the cleaning composition, and also the cleaned components themselves.
Bibliography:Application Number: KR20187026290