전해 에칭용 장치 및 금속 화합물 입자의 추출 방법

용매계 전해액에서의 전해 부식법에 의한 금속 재료 중의 금속 미립자(개재물, 석출물)의 추출이나 분석에 있어서, 종래의 추출·분석 방법을 크게 변경하지 않고, Cu 이온 등에 의한 금속 미립자의 표면 치환을 억제하고, Artifact(의제) CuS 등의 생성을 방지하는 것, 및 음극에 석출한 금속이 오염원이 되지 않도록, 당해 석출 금속을 적극적으로 음극에 부착시키는 것을 과제로 한다. 금속 재료 중의 금속 화합물 입자를 분리 추출하는 전해 에칭용 장치이며, 하기 식으로 정의되는 Δ가 10 이상이 되는 금속 M'로 이루어지...

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Main Author MIZUKAMI KAZUMI
Format Patent
LanguageKorean
Published 14.09.2018
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